一、高反射率13nmMo/Si多层膜（论文文献综述）
李阳[1]（2021）在《1064nm高能激光反射膜的制备及其形变分析》文中研究指明高反膜已广泛应用于各种激光系统及光学仪器中,然而由于高反膜一般厚度较大,光学元件在镀膜后常常由于薄膜应力而引起较大的面形变化,这将使得光学系统的成像质量变差。为了降低系统中光学元件镀膜前后的面形变化,有必要建立多层膜热应力和残余应力模型,明确不同膜料和膜系下膜-基结构的应力分布和面形变化,才能设计并制备微变形高能激光反射膜。基于以上讨论,本文研究了熔石英基底（220×10mm）上激光高反膜的应力分布,膜系设计及工艺制备等。使用有限元分析方法对多层膜的热应力和残余应力及其引起的面形变化进行仿真分析,进行膜料的选择,利用TFC软件进行膜系设计。在ZZS500-2/G真空箱式镀膜机中完成小口径高反膜的制备。在莱宝ARES 1350镀膜机中,采用电子束真空镀膜并加以APS离子源辅助沉积完成激光高反膜的制备。通过建模仿真分析,得到膜-基结构热应力分布规律。采用等效参考温度和生死单元技术对多层膜的残余应力进行分析,在残余应力作用下,熔石英基底（30×2mm）上高反膜膜系G|（HL）10H|A比G |（LH）10L|A面形变化更小,面形变化减少38nm。对于大口径元件,考虑在重力引起的曲面上镀膜,修正了理想平面镀膜的不足,为微变形激光介质高反膜的制备提供指导。发现熔石英基底上高低折射率材料（TiO2、HfO2、H4和SiO2）的本征应力在残余应力中起主导作用,制备的不同膜料组合的高反膜都表现为压应力,其中TiO2/SiO2组合残余应力最小,对应面形变化也最小。镀膜前基底面形对镀膜后面形的影响较大,平面度越高,变形量较小。当镀膜前基底面形为凹面时,镀膜后变为凸面,这表明镀膜可以改善或修改基底面形,说明了应变补偿法的可行性。熔石英上膜系G|（HL）10H2L|A的残余应力为-39.70MPa,镀膜前后面形变化为0.112λ,相对于不加补偿层的G|（HL）10H|A膜系面形变化量减小0.094λ,表明当加2L应力补偿层时,不仅减小多层膜整体残余应力,使得镀膜前后基底面形变化较小,而且有利于抗激光损伤能力的提高,其抗激光损伤阈值为6.9J/cm2,比不加保护层时的抗激光损伤阈值提高2.9J/cm2。在熔石英基底（220×10mm）上制备激光高反膜,当初始面形为凸面时,膜系为G|（HL）10H|A比G|（LH）10L|A面形变化更小,减小了 1.9λ。无论基片口径大小或初始面形为凹面或凸面,同等实验条件下,熔石英基片上镀制TiO2/SiO2高反膜膜系为G |（HL）10H|A面形均优于G|（LH）10L|A,膜系G|（HL）10H|A的反射率较高。膜系G|（HL）10H2L|A的抗激光损伤阈值较高。最终,在熔石英（220×10mm）上实现 1064±40nm 波段,R>99.77%;LIDT=5.4J/cm2;△PV=2.64λ。
王月[2]（2021）在《基于多层膜结构的超短X射线脉冲反射原理的研究》文中认为随着光子科学的不断发展,基于气体和固体高次谐波产生（High Harmonic Generation,简称HHG）以及自由电子激光（Free Electron Laser,简称FEL）的超短X射线脉冲产生机制不断成熟。特别的,作为新一代光源,FEL可以产生超高亮度的超短X射线脉冲,使许多相关的基础科学领域,特别是超快动力学的研究领域迎来了新的契机。X射线多层膜光学元件作为一种人造纳米周期排列的光子晶体结构,它可以使X射线光束通过在多层材料界面上的布拉格衍射提高其传输过程的反射效率。多层膜光学元件也是超快实验中的关键部件:它们一方面用于脉冲反射传输以及聚焦等功能,另一方面也被应用于构造和整形出具有明确特征的超短脉冲。由FEL产生的飞秒(fs=10-15s)和阿秒(as=10-18s)时间尺度的X射线脉冲使得多层膜光学在这一领域的应用又有了新的机遇和挑战:FEL脉冲具有超快时间结构的基本特征,对于多层膜结构反射FEL脉冲,必然要考虑到FEL脉冲在多层膜结构中的色散效应以及多层膜结构对脉冲的影响。因此,为了研究X射线波段的FEL超短脉冲在多层膜结构中的反射的物理问题,本课题主要进行了以下的工作:首先,我们利用多层膜结构的设计和优化的基本原理并结合材料性质,讨论了多层膜结构的参数计算。我们利用Parratt严格迭代算法构建起了X射线多层膜结构的仿真框架,包含了多层膜结构优化计算以及多层膜结构反射率计算程序。特别的,在多层膜反射率计算程序中,考虑到多层膜结构制备中出现的层间粗糙度以及层间材料梯度扩散结构,并通过多层膜结构反射率计算程序优化了膜层设计。接下来,针对SASE FEL脉冲,尤其是对于1-3keV的中能X射线脉冲,为了优化光学元件,在线性光学范围内,利用傅里叶分析的方法,针对具有多个尖峰的SASE FEL脉冲进行多层膜结构反射研究。我们考察了经过设计的Cr/B4C多层膜结构反射后的SASE FEL脉冲的时域-频域结构特征变化,并且证实了多层膜结构反射SASE脉冲的可靠性。最后,我们针对硬X射线超短脉冲,尤其是单个阿秒脉冲在周期性多层膜结构中的反射问题进行了仔细的探讨。首先引入单峰高斯入射脉冲,通过傅里叶变换以及W/B4C周期性多层膜结构反射后频谱的逆傅里叶变换,我们得到了经过多层膜结构反射的超短脉冲结构和相位特征。根据高斯脉冲和多层膜结构的基本属性,我们建立了一个对X射线反射脉冲的评估模型——线性啁啾近似模型。通过这个模型,我们可以在一定的范围内对反射脉冲的啁啾以及脉冲长度进行定量的描述,进而对多层膜结构的线性反射性能进行定量的描述。通过傅里叶分析模型的结果与线性啁啾近似模型的结果比较,我们能够初步理解多层膜结构反射超短脉冲的基本特征和多层膜结构对脉冲造成的影响。本研究从多层膜结构设计出发,以单色光X射线作为X射线多层膜结构的优化设计依据,利用Parratt理论框架搭建X射线反射率计算模块,通过对不同的周期性多层膜结构参数的考察,对多层膜结构本身的性能进行了全面的分析和计算。以此作为依据,对多层膜结构反射超短脉冲的物理过程进行计算仿真,深入了解X射线脉冲与多层膜结构材料的相互作用,为多层膜光学元件应用于FEL光束的传输与分束、优化光束线站结构单元的研制与建设提供更多的理论参考依据。
师云云[3]（2021）在《多波段全介质高反射薄膜的设计与制备》文中研究表明目前,工作于单波段的光电器件已经越来越难以应对现代仪器高速发展带来的严峻挑战,随之兴起的多波段光电器件,具备较强的角分辨能力与能量收集能力,能够集多功能一体化,满足各波段的不同使用需求。本文主要从多波段高反膜的光谱性能、激光防护性能以及大口径薄膜的应力分布三方面入手,对多层膜体系的热应力进行建模与深入研究,继而开展三波段兼容多层膜的设计与制备工作,推进大口径基底上膜层的应力与损伤性能研究。借鉴双层复合梁理论,建立了圆形基底上双层、多层光学介质膜的热应力模型。通过力平衡和弯矩平衡等边界条件分析等效膜基系统中的应力应变分布,建立了等效膜层和基底的热应力理论关系。推导的公式不仅在分析双层膜系统应力应变方面是行之有效的,对于预测周期弹性多层膜中的热应力分布同样适用。结合实际轮廓仪测量基底在沉积HfO2/SiO2双层膜、多层膜前后的曲率半径,得到膜层的残余应力分别为-52.59MPa和-101.65MPa,理论推导的热应力公式计算得到双层、多层膜的热应力分别为-79.33MPa和-78.46MPa,高温下制备的薄膜在生长过程中,缺陷密度小,本征应力较低,验证了膜基模型的有效性。在G/（HL）SH/A膜系结构的基础上,高低折射率材料选取TiO2-SiO2,在Φ30mm的K9基底上进行基础实验研究。500nm～650nm、808nm、1064±40nm范围分别采用中心波长530nm、575nm 以及 1064nm,按照膜系 G/（HL）8H/A、G/（1.5H1.5L）4H/A、G/（HL）8H/A 进行高反膜的镀制。三波段膜层的残余应力数值分别为-31.52MPa、-37.10MPa、-94.44MPa,状态均表现为压应力状态。TiO2/SiO2、HfO2/SiO2、LaTiO3/SiO2三种材料组合下1064nm高反膜的抗激光损伤阈值分别为2.9J/cm2、3.5J/cm2、2.2J/cm2。前两者薄膜样品的膜基结合力较好,LaTiO3/SiO2组合高反射薄膜表面起皱脱落,抗激光损伤性能较为低弱。设计并制备了三波段兼容的介质高反膜,监控波长560nm,膜系结构优化为G/（HL）8H（2L）4（1.4H1.4L）8H2L（1.9H1.9L）81.9H/A,在不同膜堆之间添加低折射率层来抑制虚设问题,通过增加周期数改善808nm波长点处带宽小、峰值反射率低等不足。在Φ220mm的大口径基底上成功制备性能良好的宽波段大尺寸多层高反射薄膜,光谱曲线较为平滑,膜厚均匀性良好,成膜致密无起皱龟裂脱落等现象出现,膜层牢固性较高。鉴于玻璃的抗压强度要优于其抗拉强度,膜层的应力状态呈现良好的态势,表现为较小的压应力。其光谱性能在可见光500nm～650nm波段范围内,平均反射率为99.5%,峰值反射率为99.9%;778nm～838nm范围内,峰值反射率99.9%,平均反射率99.8%;1064±40nm波段范围内,其平均反射率能够达到99.7%,峰值反射率达到99.9%。
李世民[4]（2021）在《基于微纳结构的辐射控温薄膜制备及物性研究》文中进行了进一步梳理人类日益增强的经济活动使能源消耗量逐年上升,并加剧了温室效应。同时,人们对生活舒适度的追求导致用于温度调节的能耗快速增长。辐射控温（制冷或加热）无需外加能耗就能够在一定范围内调控物体的温度,近几年已成为研究的热点。高效率的辐射制冷或加热材料在太阳能电池、航空航天、建筑楼宇、交通工具、及人体和环境控温等众多领域有重要的应用前景。传统控温设备主要利用可相变物质在蒸发气化吸热/冷凝液化放热的过程实现对周围环境温度的调节。这些设备的运行需要消耗能量,否则无法正常工作。显然,在无法提供能源的特殊环境下,辐射控温是唯一的解决方案。退一步从节约能源考虑,辐射控温也是值得提倡的绿色、重要节能手段。辐射制冷利用物体表面的红外热辐射将热量释放到冷背景（如外太空,低温暗室）环境中,同时减少太阳光能的吸收,从而使物体表面降温;采用表面低发射率的材料可以有效抑制红外辐射从而实现保温甚至升温。无论是辐射制冷效率还是辐射加热效率都与材料自身的特性和材料表面结构特性密切相关。辐射控温材料和结构的应用领域和场所非常广泛,对所在环境条件要求不高。但是,目前大面积、易制备的辐射控温材料,尤其是辐射制冷材料存在各种各样的缺点,直接影响了其应用。如何获得大面积低成本高效率的辐射控温材料仍然是亟待解决的主要问题。本文首先通过系统分析辐射控温机理,得到辐射控温需求所需满足的各种特定分波段光谱特性。然后围绕特定目标光谱特性,我们创新性的设计不同种类的具有特殊微纳结构的薄膜材料来构造目标光谱,并利用多种的实验手段实现大面积制备。最终得到高效率、低成本、高质量的辐射控温薄膜,并进行了实际验证。本文将从制冷和保温两大应用场景出发进行展开。在第一章中,介绍辐射控温的需求和意义,明确不同辐射控温场景所需满足的各种特定分波段光谱特性,并回顾了辐射控温发展背景及现状。在第二章中,创新性的提出结合氮化硅（Si3N4）颗粒散射吸收和聚二甲基硅氧烷（PDMS）薄膜材料本征吸收两种吸收机理来构造大气窗口选择性辐射光谱特性,并结合喷涂和刮涂两种方法进行铝/氮化硅/聚二甲基硅氧烷（Al/Si3N4/PDMS）三层薄膜堆栈结构的制备。利用辐射制冷理论分析了该薄膜的制冷温度和制冷功率,并通过设计合理的低温背景环境进行实际验证。该材料结构简单,制备工艺高效便捷,为可快速实现大面积、高质量的大气窗口选择性辐射制冷的制备提供了一种实可行的技术方案。在第三章中,创新性的结合碳酸钙（GaCO3）颗粒的散射和聚丙烯分层薄膜的散射这两种机理来构造短波（0.3-2.5μm）高反射光谱特性,成功制备出具有聚乙烯/聚丙烯碳酸钙颗粒混合物/聚乙烯/聚二甲基硅氧烷（PE/（PP/Ca CO3）/PE/PDMS）多层薄膜堆栈结构的样品。在此基础上,我们基于自主设计并搭建的辐射制冷户外测试系统在多地进行了试验,证实其高效的辐射制冷特性。在第四章中,创新性的提出利用透明导电氧化物作为辐射保温的红外特定光谱构造材料,并基于云母衬底再转移的方法得到聚乙烯/掺铟氧化锡/透明衬底（PE/ITO/transparent substrate）大面积可见透明柔性辐射保温材料。同样通过实验初步验证辐射保温效果。在第五章中,我们基于聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）衬底作为耐高温衬底,设计制备高于环境温度物体的辐射保温薄膜材料。该薄膜由聚二甲基硅氧烷/掺银氧化铟锡/聚对苯二甲酸乙二醇酯（PDMS/Ag-doped ITO/PET）三层结构组成,在夏季相同日光照射下,最高可实现温差。在第六章中,我们对工作进行了总结,分析了实验和理论分析的优点和不足。展望了本工作的下一步计划,分析了如何拓展和改进目前的工作,为得到更高的辐射控温效果做准备。
刘馨泽[5]（2021）在《极紫外光刻掩模白板检测系统关键技术研究》文中进行了进一步梳理近年来,极紫外（Extreme ultraviolet-EUV）光刻技术飞速发展,其关键问题——无缺陷掩模的制造备受关注。由于现有工艺水平无法实现无缺陷掩模的制造这项重要技术,因此,人们通过缺陷检测和修复技术来避免因掩模缺陷导致器件失效的情况发生。在众多的检测方法中,在波长（At wavelength）EUV光刻掩模白板暗场成像检测方法具有分辨率高、检测准确率高和灵敏度高等优点,引起研究人员的广泛关注。本文围绕着这一典型在波长EUV光刻掩模白板检测系统中的关键技术之一——Schwarzschild光学暗场成像系统的优化设计开展了如下研究:1.首先对数值孔径（Numerical aperture-NA）为0.2、视场为0.5 mm×0.5 mm、放大倍率为26的球面Schwarzschild光学成像系统进行优化设计;在此基础上,增加可移动的平面镜和离轴球面镜,实现放大倍率为1200、中心视场良好成像的高倍放大系统的优化设计;然后利用时域有限差分法对不同类型缺陷的散射光强与掩模白板偏转角度的关系进行了研究,通过对比振幅缺陷及相位缺陷的散射光强与掩模白板偏转角度的关系,可以区分振幅缺陷和相位缺陷,从而实现了集检测、高倍放大和缺陷识别等功能于一体的EUV光刻掩模白板检测系统的优化设计;2.为了提高球面Schwarzschild系统的分辨率,采用多层膜反射镜反演最佳裸镜的方法,对NA为0.5的非球面Schwarzschild系统进行了优化设计。首先分析不同膜系结构Mo/Si多层膜对系统成像质量的影响,经过比较,发现四层模型多层膜应用于系统设计是必要的。在此基础上,将传统光学设计中的反射镜视为多层膜与裸镜面形共同作用的结果,基于多层膜等效工作界面模型,可以实现由多层膜反射镜反演最佳裸镜,从而实现了考虑多层膜的非球面Schwarzschild系统的优化设计;3.在非球面Schwarzschild系统中,利用有限元分析法分析了Mo/Si多层膜残余应力对反射镜面形的影响,并通过系统光学设计进一步量化了多层膜残余应力对系统成像质量的影响。发现仅通过优化物像距无法补偿多层膜残余应力向系统引入的球差,而令基底镀膜口径大于有效工作口径,通过优化物像距就可以很好的补偿引入的高阶球差,从而实现了非球面Schwarzschild系统考虑多层膜残余应力的优化设计。上述研究工作为解决EUV光刻掩模白板检测系统优化设计过程中所面临的若干实际问题提供了理论依据,为进一步实现完整光学系统的优化设计奠定了基础。
王占山,黄秋实,张众,伊圣振,李文斌,沈正祥,齐润泽,余俊[6]（2021）在《极紫外、X射线和中子薄膜光学元件与系统》文中研究指明极紫外、X射线和中子光学为现代科学的发展提供了高精度的观测手段,但这些手段的实现需要大量高性能薄膜光学元件和系统的支撑。由于短波长和材料光学常数的限制,短波光学元件的结构、性能和制作技术明显区别于长波光学元件。近二十年来,同济大学精密光学工程技术研究所建立了以短波反射镜为基底的精密加工检测平台,发展了超薄薄膜界面生长调控方法和大尺寸薄膜镀制技术,提出了高效率/高分辨率多层膜微纳结构的衍射理论和制备方法,初步阐明了短波辐照损伤的物理机制,形成了短波薄膜和晶体聚焦成像系统的高精度全流程研制技术,并将该技术成功应用于国内和国际短波光子大科学装置中。本文简要介绍本课题组在上述短波元件和系统领域中的研究进展。
李超逸,陶保全,郭祥帅,匡尚奇[7]（2020）在《极紫外多层膜技术的研究进展》文中认为极紫外多层膜利用各个界面反射光的相长干涉,在极紫外波段获得了高反射率,已成为极紫外光刻设备中反射式光学系统的核心元件。本文对近年来极紫外多层膜表征、设计和制备领域的研究现状进行了介绍和分析。由于多层膜的光学性能易受膜层界面粗糙度、膜层扩散以及膜厚误差等因素的影响,文中重点对联合多检测技术的多层膜表征、膜系优化算法和膜层界面优化工程进行阐述。除此之外,本文针对联合多项检测技术表征以及鲁棒性膜系设计,讨论了多目标优化算法在极紫外多层膜技术中的应用潜力,展望了多层膜技术在软X射线波段及光谱裁剪等领域的应用。
彭亮[8]（2019）在《光谱选择性发射红外隐身多层膜的设计、制备与性能研究》文中研究表明红外探测技术和精确制导武器的发展对各类军事目标的生存与安全构成了严重威胁,红外隐身技术已成为提高军事装备战斗力、打赢现代化战争的重要因素。作为一种新型的红外隐身材料,光谱选择性发射材料从降低发射率和降低实际温度两方面出发,抑制目标的红外辐射特征,实现红外隐身。具体来说,该类材料在红外探测的大气窗口波段（3-5μm和8-14μm）具有低发射率;同时在非窗口波段具有高发射率,通过非窗口波段的红外辐射降低目标的实际温度,即辐射降温。光谱选择性发射材料能够解决传统红外隐身材料所存在的全波段低发射率和辐射降温的兼容问题,具有优异的红外隐身性能和广阔的应用前景。目前,研究人员针对这一需求,设计并制备了基于微纳结构的光谱选择性发射材料,但是存在着光谱选择性差,结构和工艺复杂,耐温性差等制约其应用的实际问题。此外,该类材料的辐射降温性能和红外隐身性能尚未进行系统的实验验证。本文基于超薄金属膜或介质材料的本征红外光学特性,设计并制备光谱选择性突出、制备工艺简单、耐温性能良好的选择性发射红外隐身多层膜。通过理论计算和实验表征,对选择性发射红外隐身多层膜的光谱特征调控、变温红外发射率、辐射降温性能及红外隐身性能等问题展开系统深入的研究。论文对促进光谱选择性发射材料在红外隐身技术领域的应用具有重要意义。全文主要分为以下三个部分:1.基于超薄金属膜的光谱选择性发射红外隐身多层膜基于超薄金属银（Ag）膜的本征红外光学特性,并借助阻抗匹配理论,设计可用于红外隐身的光谱选择性发射多层膜。超薄金属Ag膜在红外波段的高消光系数及其隧道效应使其成为增强红外辐射的有效媒介。将超薄Ag膜与红外透明介质材料锗（Ge）相结合,设计并制备了在3-5μm和8-14μm窗口波段具有低发射率(ε3-5μm=0.18;ε8-14μm=0.31),非窗口5-8μm波段具有高发射率(ε5-8μm=0.82)的Ag/Ge选择性发射红外隐身多层膜,多层膜的光谱选择性可保持至200℃。此外,分别在真空和室内环境测试Ag/Ge选择性发射多层膜的辐射降温性能。与红外低发射率材料相比,Ag/Ge选择性发射多层膜通过增强5-8μm非窗口波段的发射率表现出更优异的辐射降温性能,两种材料分别覆盖的目标在真空和室内环境测温实验中实际温度的最大温差依次为120℃和15℃。最后,通过与红外低发射率材料的对比,验证了Ag/Ge选择性发射多层膜在红外隐身中的性能优势。当目标实际温度低于200℃时,上述两种材料分别覆盖的目标在3-5μm和8-14μm波段辐射温度的最大温差依次为19℃和11℃。Ag/Ge选择性发射多层膜将降低窗口波段发射率和实际温度相结合,更有效地抑制目标的辐射温度,即红外辐射特征,表现出更优异的红外隐身性能。2.面向高温红外隐身应用的选择性发射多层膜通过多层膜材料体系的优化选择,设计耐温性能更好,面向高温红外隐身应用的选择性发射多层膜。以超薄难熔金属钼（Mo）膜和过渡族金属氧化物氧化铪（Hf O2）膜作为多层膜组成材料,通过结构设计调控Hf O2/Mo多层膜的红外发射率,满足高温红外隐身的光谱选择性要求:3-5μm窗口波段低发射率(ε3-5μm<0.3),5-8μm非窗口波段高发射率(ε5-8μm>0.75)。变温红外发射率测试结果表明,Hf O2/Mo多层膜在真空和氮气环境中的光谱选择性可保持至700℃。但在高温空气环境中,多层膜的光谱选择性随Mo膜的氧化及铪-钼氧化物（Hf Mo2O8）的生成而消失。Hf O2/Mo多层膜的光谱选择性、结构和光谱热稳定性使其适用于航天器高温部件的红外隐身。3.全介质型选择性发射红外隐身多层膜基于氮化铝（AlN）的本征强反射带特性,设计全介质型的光谱选择性发射多层膜。通过表征AlN的红外光谱以及红外光学常数,分析了AlN的本征强反射带（11-15.5μm）特性及其应用于选择性发射红外隐身材料的可行性。将AlN的强反射带与Ge/Mg F2带通滤光膜相结合,设计全介质型AlN基选择性发射红外隐身多层膜。变温红外发射率测试结果表明,膜系在窗口波段的发射率低于0.3(ε3-5μm=0.26;ε8-14μm=0.29),在非窗口5-8μm波段发射率接近0.8(ε5-8μm=0.79),且光谱选择性可保持至400℃。由于兼具窗口波段低发射率和辐射降温特性,AlN基选择性发射材料具有比AlN基低发射率材料更优异的红外隐身性能,两种材料在8-14μm窗口波段辐射温度的最大温差约8.5℃。最后,基于AlN基选择性发射多层膜全介质型的结构特点,将其与微波吸收体相结合,得到一种红外-雷达兼容隐身材料。该兼容隐身材料在保持红外光谱选择性的同时,在8-11 GHz波段吸收率高于0.9。
王一名[9]（2019）在《基于改进型进化算法的EUV多层膜的表征与制备》文中研究指明极紫外（EUV）多层膜的表征和设计中,主要采用的遗传算法存在一定的问题,主要是求解速度慢及大种群和精较低等问题。本文研究,主要是在宽角度非周期EUV多层膜的设计和周期EUV多层膜的表征中将云模型量子进化算法（CQEA）及双目标和实数编码的量子进化算法（RQEA）运用其中,以解决上述各类问题。首先,本文的研究,建立了等周期Mo/Si多层膜的掠入射X射线反射谱（GIXR）的反演拟合程序,其主要是基于实数编码量子进化算法（RQEA）以及实数编码的遗传算法（RGA）。其次,在上述的基础上,本文实现了对非周期宽角度EUV多层膜设计程序的建立,主要是基于双目标以及云模型量子进化算法以及实数编码量子进化算法,同时,根据相应的结果进行了实验和理论分析。结果表明:（1）对进化算法进行改进,建立了基于等周期EUV多层膜表征和设计的评价函数梯度信息的改进型量子进化算法,提高了多层膜的表征精度和非周期EUV多层膜的设计效率;（2）利用双目标遗传算法建立等周期EUV多层膜表征的联合求解算法,解决了多层膜表征中的多解问题,获得了高精度的多层膜微观结构参数;（3）对宽角度EUV超反射镜的非周期Mo/Si多层膜进行鲁棒性膜系设计,理论上评估不同膜厚误差的鲁棒性膜系设计,分析膜系设计可允许的最大膜厚控制误差。分析表明,云模型量子进化算法和双目标遗传算法在EUV多层膜表征和设计领域有着非常广阔的应用前景,为工作的进一步开展奠定了基础。
匡尚奇,张超,王一名,周祥燕,谢耀[10]（2017）在《改进型量子进化算法在宽带EUV多层膜设计中的应用》文中提出为提高基于量子进化算法（QEA）在宽带极紫外（EUV）多层膜设计中的求解效率和精度,本文利用宽带多层膜的光学性能评价函数的梯度信息改进QEA,建立具有明确进化方向的适用于宽带EUV多层膜设计的改进型量子进化算法（IQEA）。对比分析了基于IQEA和QEA的宽带Mo/Si多层膜的膜系设计过程和结果,结果表明,基于IQEA的多层膜膜系设计理论方法具有更优越的求解效率和精度;同时,IQEA同样可以小种群规模进行多参数优化。基于IQEA的宽带Mo/Si多层膜的设计理论实现了包括入射角为0°18°,反射率达50%的宽角度多层膜,以及反射光谱带宽为1315nm,反射率达25%的宽光谱多层膜的设计。基于IQEA的宽带高反射率EUV多层膜的理论膜系设计方法为复杂多层膜的理论设计提供了一种可供选择的高效膜系设计方法。
二、高反射率13nmMo/Si多层膜（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、高反射率13nmMo/Si多层膜（论文提纲范文）
（1）1064nm高能激光反射膜的制备及其形变分析（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 研究背景及意义 |
| 1.2 激光高反膜的研究现状 |
| 1.2.1 提高激光薄膜激光损伤阈值的方法 |
| 1.2.2 薄膜残余应力研究进展 |
| 1.2.3 薄膜应力仿真分析 |
| 1.2.4 薄膜残余应力控制 |
| 1.3 本文的主要研究内容 |
| 1.3.1 主要研究内容 |
| 1.3.2 研究技术路线 |
| 2 薄膜制备与性能表征 |
| 2.1 光学薄膜制备 |
| 2.1.1 热蒸发沉积 |
| 2.1.2 离子束辅助沉积 |
| 2.2 光谱性能表征 |
| 2.3 抗激光性能表征 |
| 2.4 薄膜应力表征 |
| 3 高反膜的设计与优化 |
| 3.1 膜系设计理论 |
| 3.1.1 单层介质膜 |
| 3.1.2 多层介质膜 |
| 3.1.3 多层介质高反膜 |
| 3.2 薄膜材料的选择 |
| 3.3 激光高反膜的设计 |
| 3.3.1 膜料对高反膜特性的影响 |
| 3.3.2 膜系对高反膜特性的影响 |
| 3.4 小结 |
| 4 膜-基体系应力建模及仿真 |
| 4.1 膜-基结构应力理论 |
| 4.1.1 膜-基结构的热应力 |
| 4.1.2 薄膜的本征应力 |
| 4.2 热应力的分布及其对元件面形的影响 |
| 4.3 残余应力的分布及其对元件面形的影响 |
| 4.4 高反膜残余应力对元件面形影响仿真 |
| 4.5 小结 |
| 5 1064nm高能激光反射膜的制备及性能 |
| 5.1 薄膜制备工艺 |
| 5.2 单层膜的光学常数和应力分析 |
| 5.3 高反膜光学特性及应力分析 |
| 5.3.1 基底面形对高反膜面形影响 |
| 5.3.2 膜料和膜系对高反膜面形影响 |
| 5.4 离子束辅助沉积高反膜 |
| 5.5 小结 |
| 6 结论及展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及成果 |
| 致谢 |
（2）基于多层膜结构的超短X射线脉冲反射原理的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 引言 |
| 1.1 X射线物理背景 |
| 1.2 连续X射线的产生 |
| 1.3 X射线超短脉冲的产生 |
| 1.3.1 基于HHG的X射线脉冲光源 |
| 1.3.2 基于加速器的X射线脉冲光源 |
| 1.4 X射线超短脉冲的应用与挑战 |
| 1.4.1 超短脉冲的应用 |
| 1.4.2 多层膜技术的提出和发展 |
| 1.5 本章小结与论文总述 |
| 第2章 X射线多层膜反射超短脉冲概述 |
| 2.1 X射线与物质的相互作用 |
| 2.2 X射线在介质表面的反射和折射 |
| 2.3 单层各向同性介质膜的反射和折射 |
| 2.4 X射线多层膜反射率的计算模型 |
| 2.4.1 运动学近似模型 |
| 2.4.2 Parratt严格迭代模型 |
| 2.4.3 转移矩阵(TMM)模型 |
| 2.4.4 耦合波函数模型 |
| 2.4.5 含时类薛定谔方程模型 |
| 2.5 多层膜反射X射线超短脉冲的基本研究方法 |
| 2.5.1 理论分析方法 |
| 2.5.2 阿秒条纹光谱技术 |
| 2.6 本章小结 |
| 第3章 X射线周期性多层膜反射率计算模型构建 |
| 3.1 周期性多层膜的设计和优化 |
| 3.2 多层膜结构的模型修正 |
| 3.2.1 粗糙界面的光学模型 |
| 3.2.2 多层膜层间非理想光学模型的Névot-Croce修正 |
| 3.2.3 多层膜层间非理想光学模型的折射率修正 |
| 3.3 多层膜反射率计算模型的构建框架 |
| 3.3.1 基于MATLAB的多层膜反射率计算的实现 |
| 3.3.2 周期性多层膜仿真框架的计算与验证 |
| 3.4 本章小结 |
| 第4章 SASE FEL脉冲经由周期性多层膜的反射 |
| 4.1 中能X射线FEL光学器件的挑战 |
| 4.2 多层膜反射SASE FEL脉冲的模型 |
| 4.3 计算模拟与分析总结 |
| 4.3.1 Cr/B_4C周期性多层膜结构的设计和优化 |
| 4.3.2 Cr/B_4C周期性多层膜结构反射中能SASE FEL脉冲 |
| 4.4 本章小结 |
| 第5章 硬X射线阿秒脉冲经由W/B_4C周期性多层膜的反射 |
| 5.1 单峰FEL硬X脉冲的发展 |
| 5.2 W/B_4C多层膜结构的设计与计算 |
| 5.3 多层膜结构的阿秒脉冲反射 |
| 5.3.1 傅里叶变换方法 |
| 5.3.2 带有线性啁啾近似的解析模型 |
| 5.4 模拟计算与分析讨论 |
| 5.5 本章小结 |
| 第6章 总结和展望 |
| 参考文献 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 |
| 致谢 |
（3）多波段全介质高反射薄膜的设计与制备（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 研究背景及意义 |
| 1.2 国内外研究现状 |
| 1.2.1 多波段光谱性能研究 |
| 1.2.2 高反膜激光防护性能研究 |
| 1.2.3 大口径薄膜应力研究 |
| 1.3 课题的主要工作 |
| 1.3.1 研究的主要内容 |
| 1.3.2 总体的研究思路 |
| 1.4 章节安排 |
| 2 薄膜的制备工艺及性能表征 |
| 2.1 实验设备及方法 |
| 2.2 薄膜制备的基本工艺 |
| 2.3 膜厚监控 |
| 2.3.1 光电极值法 |
| 2.3.2 石英晶振法 |
| 2.4 薄膜性能表征 |
| 2.4.1 光学常数表征 |
| 2.4.2 光谱性能表征 |
| 2.4.3 应力表征 |
| 2.4.4 抗激光损伤性能表征 |
| 2.5 小结 |
| 3 薄膜体系的热应力建模研究 |
| 3.1 双层膜结构热应力建模 |
| 3.2 HfO_2/SiO_2双层膜的热应力分析 |
| 3.2.1 理论计算结果 |
| 3.2.2 实验结果及分析 |
| 3.3 多层膜体系的应力分析 |
| 3.4 小结 |
| 4 单波段激光高反膜的设计与制备 |
| 4.1 单层膜基础实验研究 |
| 4.1.1 膜料优选 |
| 4.1.2 薄膜特性分析 |
| 4.2 500nm～650nm波段高反膜研究 |
| 4.2.1 膜系结构设计 |
| 4.2.2 薄膜制备 |
| 4.2.3 应力特性分析 |
| 4.3 808nm高反膜研究 |
| 4.3.1 膜系设计 |
| 4.3.2 薄膜制备 |
| 4.3.3 应力特性分析 |
| 4.4 1064±40nm波段高反膜研究 |
| 4.4.1 多层膜内的电场强度分布 |
| 4.4.2 基于电场强度优化的膜系设计 |
| 4.4.3 薄膜制备 |
| 4.4.4 应力特性分析 |
| 4.4.5 抗激光损伤性能 |
| 4.5 小结 |
| 5 多波段高反膜的设计与制备 |
| 5.1 基础实验研究 |
| 5.1.1 初始膜系设计 |
| 5.1.2 薄膜制备 |
| 5.1.3 薄膜的应力特性 |
| 5.1.4 抗激光损伤性能 |
| 5.2 Φ220mm样品制备及其性能 |
| 5.2.1 膜系优化 |
| 5.2.2 Φ220mm薄膜样品制备 |
| 5.2.3 抗激光损伤性能 |
| 5.2.4 应力特性分析 |
| 5.3 小结 |
| 6 结论与展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及成果 |
| 致谢 |
（4）基于微纳结构的辐射控温薄膜制备及物性研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 辐射控温的理论背景 |
| 1.2 辐射控温 |
| 1.2.1 辐射制冷的基本原理 |
| 1.2.2 辐射保温的基本原理 |
| 1.3 辐射制冷的发展现状 |
| 1.3.1 有序结构材料辐射控温 |
| 1.3.2 无序结构材料辐射制冷 |
| 1.4 辐射保温的发展状况 |
| 1.4.1 太阳光波段高吸收/红外波段低吸收材料 |
| 1.4.2 透明热镜 |
| 1.5 辐射控温应用 |
| 1.5.1 建筑物降温 |
| 1.5.2 人体控温 |
| 1.5.3 器件控温 |
| 1.5.4 日照下水汽蒸发和凝聚 |
| 1.5.5 节能智能窗 |
| 1.6 本论文的研究意义与主要研究内容 |
| 1.6.1 研究意义 |
| 1.6.2 主要研究内容 |
| 第2章 大气窗口选择性辐射制冷薄膜材料 |
| 2.1 前言 |
| 2.2 实验部分 |
| 2.2.1 原料耗材、生长及表征设备 |
| 2.2.2 样品制备及实验流程 |
| 2.2.3 制冷效果测试 |
| 2.3 结果与讨论 |
| 2.3.1 样品形貌分析 |
| 2.3.2 光谱分析 |
| 2.4 数值模拟及机理分析 |
| 2.4.1 计算仿真相关设置 |
| 2.4.2 数值计算和模拟结果 |
| 2.4.3 模拟计算结果与实验测得吸收谱对比 |
| 2.5 降温效果分析 |
| 2.5.1 实际降温效果 |
| 2.5.2 理论计算与实验结果对比 |
| 2.6 本章小结 |
| 第3章 宽带辐射制冷薄膜 |
| 3.1 前言 |
| 3.2 实验部分 |
| 3.2.1 原料耗材,生长及表征设备 |
| 3.2.2 样品制备及实验流程 |
| 3.3 结果与讨论 |
| 3.3.1 样品结构与材料表征 |
| 3.3.2 光学性能表征 |
| 3.4 光学数值模拟及机理分析 |
| 3.4.1 CaCO_3小球散射仿真模型及相关参数设置 |
| 3.4.2 PDMS仿真模型及相关参数设置 |
| 3.4.3 球散射数值计算结果与分析 |
| 3.4.4 PDMS模拟计算结果及分析 |
| 3.5 降温测试和理论分析 |
| 3.5.1 室外降温测试 |
| 3.5.2 室内降温测试 |
| 3.5.3 降温效果分析 |
| 3.6 其他 |
| 3.7 本章小结 |
| 第4章 基于云母衬底生长的可转移柔性辐射保温薄膜 |
| 4.1 前言 |
| 4.2 实验部分 |
| 4.2.1 原料耗材,生长及表征设备 |
| 4.2.2 样品制备流程 |
| 4.3 结果与讨论 |
| 4.3.1 样品结构及形貌表征 |
| 4.3.2 薄膜光学性质 |
| 4.4 降温测试分析 |
| 4.5 本章小结 |
| 第5章 基于PET衬底生长的柔性辐射保温薄膜 |
| 5.1 前言 |
| 5.2 实验部分 |
| 5.2.1 原料耗材,生长及表征设备 |
| 5.2.2 样品制备流程 |
| 5.3 结果与讨论 |
| 5.3.1 样品结构及形貌表征 |
| 5.3.2 薄膜光学性质 |
| 5.4 降温测试分析 |
| 5.5 本章小结 |
| 第6章 总结与展望 |
| 6.1 总结 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 |
（5）极紫外光刻掩模白板检测系统关键技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 极紫外光刻发展状况 |
| 1.1.1 极紫外光刻技术发展状况 |
| 1.1.2 我国极紫外光刻技术发展情况 |
| 1.2 极紫外光刻掩模简介 |
| 1.2.1 掩模结构 |
| 1.2.2 掩模白板材料 |
| 1.2.3 掩模白板缺陷 |
| 1.3 极紫外光刻掩模白板缺陷检测系统研究简介 |
| 1.3.1 可见光及紫外光检测系统发展 |
| 1.3.2 在波长亮场检测系统发展 |
| 1.3.3 在波长暗场检测系统发展 |
| 1.3.4 极紫外光刻掩模白板缺陷检测系统国内发展 |
| 1.4 本论文的研究意义、目的和各章节内容 |
| 第2章 极紫外光刻掩模白板缺陷检测系统基本设计 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 极紫外光刻掩模白板缺陷检测系统的设计 |
| 2.2.1 极紫外光刻掩模白板缺陷检测系统的设计指标 |
| 2.2.2 极紫外光刻掩模白板检测系统初始结构计算 |
| 2.2.3 Schwarzschild系统设计软件及优化设计步骤 |
| 2.2.4 极紫外光刻掩模白板缺陷检测系统的优化结果 |
| 2.3 时域有限差分法 |
| 2.4 有限元分析工具ANSYS软件 |
| 2.5 本章小结 |
| 第3章 Schwarzschild结构的高倍放大与缺陷性质识别系统设计 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 极紫外光刻掩模高倍放大系统优化设计 |
| 3.2.1 极紫外光刻掩模白板缺陷高倍放大系统的设计指标 |
| 3.2.2 极紫外光刻掩模白板缺陷高倍放大系统的初始结构搭建 |
| 3.2.3 极紫外光刻掩模白板缺陷高倍放大系统优化步骤 |
| 3.2.4 极紫外光刻掩模白板缺陷高倍放大系统的优化结果 |
| 3.3 振幅缺陷和相位缺陷的散射光强随掩模白板偏转角度变化结果对比 |
| 3.3.1 振幅缺陷和相位缺陷 |
| 3.3.2 凸缺陷和凹缺陷 |
| 3.3.3 模拟设置 |
| 3.3.4 仿真结果 |
| 3.4 本章小结 |
| 第4章 考虑多层膜的极紫外光刻掩模缺陷检测系统优化设计 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 考虑多层膜的极紫外光刻掩模白板缺陷检测系统优化设计 |
| 4.2.1 理想多层膜的光学特性 |
| 4.2.2 二层模型与四层模型多层膜膜系结构 |
| 4.2.3 多层膜等效工作面理论 |
| 4.2.4 非球面Schwarzschild光学成像系统优化设计 |
| 4.2.5 对比分析二层模型和四层模型多层膜对系统成像质量的影响 |
| 4.2.6 考虑多层膜的Schwarzschild光学成像系统优化设计 |
| 4.2.7 小结 |
| 4.3 Mo/Si多层膜残余应力对Schwarzschild系统反射镜面形的影响 |
| 4.3.1 多层膜残余应力的分类 |
| 4.3.2 多层膜应力的产生机制 |
| 4.3.3 Mo/Si多层膜反射镜有限元分析模型的建立 |
| 4.3.4 Mo/Si多层膜残余应力对系统反射镜面形影响分析结果 |
| 4.3.5 Mo/Si多层膜残余应力对系统成像质量的影响及优化 |
| 4.4 本章小结 |
| 第5章 总结与展望 |
| 5.1 论文总结 |
| 5.2 研究展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 |
| 致谢 |
（6）极紫外、X射线和中子薄膜光学元件与系统（论文提纲范文）
| 1 引 言 |
| 2 短波光学元件 |
| 2.1 高精度光学基底 |
| 2.1.1 大尺寸平面抛光 |
| 2.1.2 高精度确定性加工 |
| 2.1.3 高精度全频谱检测 |
| 2.2 短波光学薄膜 |
| 2.2.1 全反射薄膜 |
| 2.2.2 多层膜界面调控 |
| 2.2.3 大尺寸超薄多层膜制备 |
| 2.2.4 宽带多层膜 |
| 2.3 微纳多层膜光栅 |
| 2.4 高能光子超快辐照损伤 |
| 3 短波光学系统 |
| 3.1 薄膜反射成像系统 |
| 3.1.1 极紫外正入射成像系统 |
| 3.1.2 X射线与中子射线掠入射成像系统 |
| 3.1.3 复杂嵌套式光学系统 |
| 3.2 晶体成像系统 |
| 4 结束语 |
（7）极紫外多层膜技术的研究进展（论文提纲范文）
| 0 引言 |
| 1 极紫外多层膜的表征技术 |
| 1.1 基于单一检测技术的表征方法 |
| (1)基于HRTEM的表征方法 |
| (2)基于GIXR的表征方法 |
| 1.2 联合多种检测技术的多层膜表征方法 |
| (1)膜层界面粗糙度的高精度表征 |
| (2)膜层间扩散层的高精度表征 |
| (3)极紫外多层膜的高精度表征 |
| 2 极紫外多层膜设计 |
| (1)自适应模拟退火算法(Adaptive Local Search-based Simulated Annealing, ALSA) |
| (2)改进型量子进化算法(Improved Quantum Evolutionary Algorithm, IQEA) |
| (3)双目标遗传算法 |
| 3 极紫外多层膜的制备工艺 |
| 3.1 沉积技术 |
| (1)脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition, PLD)。 |
| (2)磁控溅射。 |
| (3)电子束蒸发。 |
| (4)离子束溅射。 |
| (5)热蒸发技术。 |
| 3.2 界面优化工程 |
| (1)钝化材料 |
| (2)添加扩散阻挡层 |
| 4 结论 |
（8）光谱选择性发射红外隐身多层膜的设计、制备与性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 前言 |
| 1.2 红外隐身概述 |
| 1.2.1 红外辐射的基本理论 |
| 1.2.2 红外隐身的概念与途径 |
| 1.3 红外隐身材料的研究现状及发展趋势 |
| 1.3.1 研究现状 |
| 1.3.2 发展趋势 |
| 1.4 光谱选择性发射材料的研究进展 |
| 1.4.1 光谱选择性发射红外隐身材料的基本概念 |
| 1.4.2 研究进展 |
| 1.4.3 在红外隐身领域的研究现状 |
| 1.5 论文选题依据、研究内容和创新点 |
| 1.5.1 论文选题依据 |
| 1.5.2 论文研究内容 |
| 1.5.3 论文创新点 |
| 第二章 实验过程与研究方法 |
| 2.1 主要实验材料及设备 |
| 2.1.1 实验材料 |
| 2.1.2 实验设备 |
| 2.2 材料制备 |
| 2.2.1 薄膜制备 |
| 2.2.2 周期性碳阵列层的制备 |
| 2.3 组成、结构和形貌分析 |
| 2.3.1 结构分析 |
| 2.3.2 成分分析 |
| 2.3.3 形貌分析 |
| 2.3.4 光学性能测试 |
| 2.3.5 电学特性分析 |
| 第三章 基于超薄金属银膜的选择性发射红外隐身多层膜 |
| 3.1 膜系设计 |
| 3.1.1 超薄金属Ag膜的红外光学特性 |
| 3.1.2 膜系结构设计 |
| 3.1.3 光谱选择性的机理分析 |
| 3.2 结构表征及红外光谱特性 |
| 3.2.1 膜系结构表征 |
| 3.2.2 红外光谱特性测试 |
| 3.3 辐射降温性能测试与分析 |
| 3.3.1 真空环境中辐射降温性能研究 |
| 3.3.2 室内环境中辐射降温性能研究 |
| 3.4 红外隐身性能测试 |
| 3.5 膜系结构再优化 |
| 3.5.1 超薄连续Ag膜的工艺优化 |
| 3.5.2 膜系结构再优化 |
| 3.5.3 红外光谱特性调谐 |
| 3.6 本章小结 |
| 第四章 针对高温红外隐身的HfO_2/Mo选择性发射多层膜 |
| 4.1 膜系设计 |
| 4.1.1 膜系组成材料的选择 |
| 4.1.2 膜系结构设计 |
| 4.2 制备工艺研究 |
| 4.2.1 单层薄膜制备工艺研究 |
| 4.2.2 膜系结构表征 |
| 4.3 红外光谱特性 |
| 4.3.1 常温红外发射率测试 |
| 4.3.2 高温红外发射率测试 |
| 4.3.3 光谱热稳定性分析 |
| 4.4 红外隐身性能仿真 |
| 4.5 本章小结 |
| 第五章 全介质型AlN基选择性发射红外隐身多层膜 |
| 5.1 AlN的结构、成分与红外光学特性 |
| 5.1.1 AlN的结构与成分表征 |
| 5.1.2 AlN的红外光学特性 |
| 5.2 膜系设计与红外光谱特性 |
| 5.2.1 膜系结构设计 |
| 5.2.2 红外光谱特性测试 |
| 5.3 辐射降温性能研究 |
| 5.3.1 辐射降温性能测试 |
| 5.3.2 辐射降温性能分析 |
| 5.4 红外隐身性能研究 |
| 5.4.1 红外隐身性能仿真 |
| 5.4.2 红外隐身性能测试 |
| 5.5 红外-雷达兼容隐身性能研究 |
| 5.5.1 微波吸收体的设计 |
| 5.5.2 兼容隐身性能测试 |
| 5.6 本章小结 |
| 第六章 结论与展望 |
| 6.1 全文主要结论 |
| 6.2 后续工作展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 作者在学期间取得的学术成果 |
（9）基于改进型进化算法的EUV多层膜的表征与制备（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 极紫外多层膜应用背景 |
| 1.2 EUV多层膜设计研究背景 |
| 1.3 本论文选题依据和主要研究内容 |
| 第2章 极紫外多层膜反射率计算与膜系设计的理论基础 |
| 2.1 极紫外多层膜反射率计算 |
| 2.1.1 基于菲涅尔系数的反射率计算 |
| 2.1.2 基于特征矩阵的反射率计算 |
| 2.1.3 极紫外多层膜设计的理论基础 |
| 2.2 实数编码遗传算法(RGA) |
| 2.2.1 实数编码遗传算法的研究现状 |
| 2.2.2 实数编码遗传算法框架 |
| 2.2.3 实数编码遗传算法特点 |
| 2.3 实数编码量子进化算法(RQEA) |
| 2.3.1 量子进化算法中的基本概念 |
| 2.3.2 量子进化算法流程 |
| 2.4 双目标遗传算法 |
| 2.4.1 双目标遗传算法基本概念 |
| 2.4.2 双目标遗传算法基本流程 |
| 2.5 本章小结 |
| 第3章 基于云模型量子进化算法和双目标遗传算法的EUV多层膜表征 |
| 3.1 基于云模型量子进化算法的光学薄膜微观结构表征 |
| 3.1.1 光学薄膜微观结构表征的研究背景 |
| 3.1.2 EUV多层膜微观结构表征程度基本流程 |
| 3.1.3 EUV多层膜微观结构表征结果 |
| 3.2 基于双目标遗传算法的周期性EUV多层膜表征 |
| 3.2.1 基于双目标遗传算法的周期EUV多层膜表征方法 |
| 3.2.2 基于双目标遗传算法的周期EUV多层膜表征结果 |
| 3.3 本章小结 |
| 第4章 改进型遗传算法在宽角度EUV多层膜设计中的应用 |
| 4.1 基于改进型量子进化算法(IQEA)的宽角度EUV多层膜设计 |
| 4.1.1 基于IQEA的 Mo/Si多层膜设计流程 |
| 4.1.2 基于IQEA的宽角度Mo/Si多层膜的设计结果与基于QEA的设计结果对比分析 |
| 4.1.3 小结 |
| 4.2 基于双目标遗传算法的宽角度EUV多层膜设计 |
| 4.2.1 基于双目标遗传算法EUV多层膜设计的意义 |
| 4.2.2 基于双目标遗传算法的Mo/Si多层膜的设计流程 |
| 4.2.3 基于双目标遗传算法的宽角度Mo/Si多层膜设计结果与分析 |
| 4.2.4 小结 |
| 4.3 本章小结 |
| 第5章 结论 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 硕士期间论文发表情况 |
（10）改进型量子进化算法在宽带EUV多层膜设计中的应用（论文提纲范文）
| 1 引言 |
| 2 EUV多层膜反射原理与基于IQEA的宽带EUV多层膜设计 |
| 3 基于IQEA的宽角度EUV多层膜设计结果与分析 |
| 3.1 基于IQEA和QEA的宽角度EUV多层膜设计结果比较分析 |
| 3.2 基于不同种群规模下的IQEA宽角度EUV多层膜设计 |
| 4 基于IQEA的宽光谱EUV多层膜设计结果与分析 |
| 4.1 基于IQEA和QEA的宽光谱EUV多层膜设计结果比较分析 |
| 4.2 不同种群规模下基于IQEA的宽光谱EUV多层膜设计 |
| 5 结论 |
四、高反射率13nmMo/Si多层膜（论文参考文献）
- [1]1064nm高能激光反射膜的制备及其形变分析[D]. 李阳. 西安工业大学, 2021(02)
- [2]基于多层膜结构的超短X射线脉冲反射原理的研究[D]. 王月. 中国科学院大学(中国科学院上海应用物理研究所), 2021(01)
- [3]多波段全介质高反射薄膜的设计与制备[D]. 师云云. 西安工业大学, 2021(02)
- [4]基于微纳结构的辐射控温薄膜制备及物性研究[D]. 李世民. 中国科学院大学(中国科学院上海技术物理研究所), 2021(01)
- [5]极紫外光刻掩模白板检测系统关键技术研究[D]. 刘馨泽. 长春理工大学, 2021(02)
- [6]极紫外、X射线和中子薄膜光学元件与系统[J]. 王占山,黄秋实,张众,伊圣振,李文斌,沈正祥,齐润泽,余俊. 光学学报, 2021(01)
- [7]极紫外多层膜技术的研究进展[J]. 李超逸,陶保全,郭祥帅,匡尚奇. 量子光学学报, 2020(04)
- [8]光谱选择性发射红外隐身多层膜的设计、制备与性能研究[D]. 彭亮. 国防科技大学, 2019(01)
- [9]基于改进型进化算法的EUV多层膜的表征与制备[D]. 王一名. 长春理工大学, 2019(01)
- [10]改进型量子进化算法在宽带EUV多层膜设计中的应用[J]. 匡尚奇,张超,王一名,周祥燕,谢耀. 光学精密工程, 2017(08)